Unsere Vlies-Tücher sind zum Finishing geeignet und werden hauptsächlich mit konventionellen Poliermitteln verwendet. Akzeptable Ebenheiten bleiben erhalten bei geringem Materialabtrag. Die Vlies-Tücher eignen sich besonders für den Einsatz in der Halbleitertechnik und bei mittelharten bis harten Materialien.
Maße:
Durchmesser:
Dicken:
Härtegrade:
bis 1200 mm 0,49-1,75 mm
nicht definiert
Abrasive
Eigenschaften
für konventionelle und mechanochemische Poliermittel:
Diamant, Borcarbid, Tonerde, Siliziumdioxid
Dicke 1,75 mm
Vlies
sehr widerstandsfähig
schöner (Hoch-)Glanzeffekt vergüteter Materialien
geringer Materialabtrag
Abrasive
Eigenschaften
konventionelle Poliermittel
Dicke 0,49 mm
Vlies dünner Struktur in Gitterform
thermisch verfestigte Fasern und Harzbeschichtung
Halbfertigung elektronischer Materialien und Halbleitern großer Dimensionen
Abrasive
Eigenschaften
alle Typen
Dicke 1,20 mm
Vlies, aufgebaut auf stark mit weichem Harz getränkten Fasern
wenig durchlässig
stark netzbar
Abrasive
Eigenschaften
alle Typen
Dicke 1,05 mm
Vlies
entwickelt für präzises Polieren
sehr hohe Lebensdauer durch bedeutende Dicke von aktiven Fasern (0,8 mm)
gut für schleifende oder schneidende Materialien
Abrasive
Eigenschaften
Siliziumdioxid
Dicke 1,70 mm
dickes Vlies, starr und sehr robust
bedeutender Materialabtrag
besonders geeignet für Halbleiter, Einkristalle, Wafers, Quarz, Saphire und alle mit Siliziumdioxid polierbaren Materialien
Unsere Vlies-Tücher sind zum Finishing geeignet und werden hauptsächlich mit konventionellen Poliermitteln verwendet. Akzeptable Ebenheiten bleiben erhalten bei geringem Materialabtrag. Die Vlies-Tücher eignen sich besonders für den Einsatz in der Halbleitertechnik und bei mittelharten bis harten Materialien.
design: kreative-medien.de